研究構(gòu)圖單元的整個(gè)重疊構(gòu)成對(duì)于該技法在標(biāo)志設(shè)計(jì)中應(yīng)用是十分必要的，重疊可分為以下幾個(gè)過(guò)程：1、并置：兩個(gè)單元水平相對(duì)運(yùn)動(dòng)，并留有一定的距離，即為并置狀態(tài)。并置狀態(tài)是構(gòu)成均衡的主要方法之一(下圖1)。2、鑲嵌：在并置狀態(tài)的基礎(chǔ)之上繼續(xù)水平相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使中間的距離越來(lái)越小并形成一個(gè)縫隙時(shí)，即為鑲嵌狀態(tài)(下圖2)。3、連接：為單元處于鑲嵌與重疊的臨界狀態(tài)。即在鑲嵌的基礎(chǔ)之上，如果兩個(gè)單元相對(duì)運(yùn)動(dòng)某一距離，